超臨界流体技術 ~KISCOの取り組み~

KISCOでは超臨界二酸化炭素をコアした技術開発を行っており、超臨界を活かした材料の開発から製造・販売、並びにお客様のニーズに対応した受託処理を行っています。
KISCOでは以下のような技術開発に取り組んでいます。

超臨界流体による
  • 薬剤の晶析(薬剤のナノ粒子化、ナノメディシン)
  • ポリマー粒子の合成(アクリルポリマーなど)
  • ポリマー粒子の融着、発泡(多孔質樹脂の成型、錠剤の軽量化)
  • 微細構造体のダメージレス乾燥(半導体・MEMSデバイス)
  • 微細多孔体のダメージレス乾燥(エアロゲル、高性能断熱材など)
  • 微粒子の乾燥(食品・医薬品添加物、炭素材料、金属類など)
  • 微細部の洗浄(ナノモールド、針(細孔穴)、成形バインダーなど)
  • 機能性成分の含浸(めっき、染色、触媒、色素など)

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これら基礎技術開発に取り組み、医薬品、化粧品、食品、電子デバイス、環境・エネルギーなど様々な市場への展開を行っています。

超臨界技術の研究開発

KISCOでは超臨界装置を自社で設計し、様々なタイプのチャンバー(粉体用チャンバー、300mmウェーハ用、窓付き小形チャンバーなど)を所有しています。これらを利用して独自の技術開発を行うとともに、お客様のニーズに対応した技術開発を行うことができます。

急速自動開閉 バッチ式チャンバー

乾燥技術(微粒子、微細多孔体、ウェーハ)
  • プロセス時間を大幅短縮 ⇒ CO2消費量の大幅削減
  • バッチ処理が可能
  • 高圧ガス製造量の減少

微粒子生成

薬剤ナノ粒子技術
  • 100nm以下の粒子調整が可能
  • 均一な粒度
  • 乾燥工程が不要で凝集レス

超臨界受託加工/デモ試験サービス

KISCO独自の技術と装置を用いて、お客様のご要望に対応した受託加工サービスを行います。
また、ベンチスケールのデモ試験も行っております。超臨界の可能性検証をご検討の方はお気軽にお問合せください。

〒103-8410
東京都中央区日本橋本町四丁目11番2号
第三営業本部 半導体材料部 開発課
TEL:03-3663-0276
FAX:03-3661-0037

事業情報

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